Hafnium(IV) acetylacetonate ใช้หลักในสาขาวิทยาศาสตร์วัสดุ โดยเฉพาะในการผลิตฟิล์มบางและการเคลือบสาร มันทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ chemical vapor deposition (CVD) และ atomic layer deposition (ALD) เพื่อสร้างชั้นออกไซด์ของแฮฟเนียม ชั้นเหล่านี้มีความสำคัญในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์สำหรับการผลิตวัสดุไดอิเล็กทริกแบบ high-k ซึ่งจำเป็นสำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง เช่น ทรานซิสเตอร์และตัวเก็บประจุ นอกจากนี้ ยังนำไปใช้ในด้านการเร่งปฏิกิริยา โดยทำหน้าที่เป็นตัวเร่งหรือสารตั้งต้นของตัวเร่งในปฏิกิริยาอินทรีย์ต่างๆ เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพและความเลือกสรร บทบาทในเทคโนโลยีนาโนก็มีส่วนสำคัญ โดยช่วยพัฒนาวัสดุโครงสร้างนาโนที่มีสมบัติเฉพาะตัว