สารเคมีนี้ถูกนำมาใช้หลักในสาขาวิทยาศาสตร์วัสดุ โดยเฉพาะอย่างยิ่งในการสะสมฟิล์มบาง มันทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ด้วยไอระเหยเคมี (CVD) และการสะสมชั้นอะตอม (ALD) ซึ่งช่วยในการก่อตัวของฟิล์มที่มีส่วนประกอบของทองแดงบนพื้นผิวต่างๆ ฟิล์มเหล่านี้มีความสำคัญในการผลิตอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เช่น วงจรรวมและเซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากทองแดงมีค่าการนำไฟฟ้าที่ดีเยี่ยม นอกจากนี้ยังถูกใช้ในการพัฒนาการเคลือบขั้นสูงและนาโนวัสดุ ซึ่งมีส่วนช่วยในการนวัตกรรมในด้านอิเล็กทรอนิกส์ ออปติกส์ และการเร่งปฏิกิริยา ความเสถียรและปฏิกิริยาของมันทำให้เป็นส่วนประกอบที่มีคุณค่าต่อกระบวนการ deposition ที่แม่นยำและควบคุมได้