ใช้หลักๆ ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เป็นสารตั้งต้นสำหรับฟิล์มบางของซิลิเซียมไนไตรด์และซิลิเซียมไดออกไซด์ในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) มีบทบาทสำคัญในการผลิตอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ โดยช่วยให้ได้ชั้นคุณภาพสูงและสม่ำเสมอที่จำเป็นต่อประสิทธิภาพของอุปกรณ์ นอกจากนี้ ยังใช้ในการผลิตสารเคลือบทางแสงและเป็นตัวปรับสภาพผิวในวัสดุขั้นสูงต่างๆ ความสามารถในการสะสมฟิล์มฐานซิลิกอนที่อุณหภูมิต่ำค่อนข้าง ทำให้มีคุณค่าสำหรับการใช้งานที่ต้องการการควบคุมคุณสมบัติของฟิล์มอย่างแม่นยำ