Hexachlorodisilane ใช้เป็นสารตั้งต้นหลักในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์สำหรับการสะสมซิลิคอนในกระบวนการเคมีวาเปอร์เดポジชัน (CVD) โดยมีบทบาทสำคัญในการผลิตฟิล์มบางและชั้นเคลือบที่เป็นฐานซิลิคอน ซึ่งจำเป็นสำหรับการผลิตวงจรรวมและส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์อื่นๆ นอกจากนี้ ยังใช้ในการสังเคราะห์โพลิเมอร์และเซรามิกที่มีซิลิคอน โดยทำหน้าที่เป็นสารกลางสำคัญ ความสามารถในการสร้างชั้นซิลิคอนความบริสุทธิ์สูงทำให้มีคุณค่าในการวิจัยและพัฒนาวัสดุขั้นสูง โดยเฉพาะในการสร้างนาโนโครงสร้างและชั้นเคลือบเฉพาะทางสำหรับการใช้งานทางแสงและอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ ยังใช้ในการสังเคราะห์สารประกอบอินทรีย์ซิลิคอน (organosilicon compounds) ที่มีประโยชน์ในอุตสาหกรรมโพลิเมอร์และวัสดุเคลือบผิว และอาจใช้ในกระบวนการผลิตซิลิคอนคาร์ไบด์ (SiC) สำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์และวัสดุทนความร้อน