Bis(hexafluoroacetylacetonato)nickel(II) hydrate

96%

Reagent รหัส: #68449
label
นามแฝง Bis(hexafluoroethylacetone)nickel(II) hydrate
fingerprint
หมายเลข CAS 14949-69-0

science Other reagents with same CAS 14949-69-0

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 472.79 g/mol
สูตร C₁₀H₂F₁₂NiO₄H₂O
thermostat คุณสมบัติทางกายภาพ
Melting Point 211-213°C
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
พื้นที่จัดเก็บ room temperature

description รายละเอียดสินค้า

สารเคมีนี้ใช้หลัก ๆ ในสาขาวิทยาศาสตร์วัสดุ โดยเฉพาะการสะสมฟิล์มบาง ทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ด้วยไอระเหยเคมี (CVD) และ deposition ชั้นอะตอม (ALD) เพื่อสร้างฟิล์มที่มีส่วนประกอบของนิกเกิล ฟิล์มเหล่านี้จำเป็นต่อการผลิตส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ เช่น เซมิคอนดักเตอร์และเซ็นเซอร์ เนื่องจากคุณสมบัติการนำไฟฟ้าและคุณสมบัติเร่งปฏิกิริยา นอกจากนี้ยังนำมาใช้ในการวิจัยและพัฒนาเพื่อสร้างวัสดุขั้นสูงที่มีลักษณะแม่เหล็กหรืออิเล็กทรอนิกส์เฉพาะ ความเสถียรและปฏิกิริยาภายใต้สภาวะควบคุมทำให้เป็นสารประกอบที่มีคุณค่าต่อการประยุกต์ใช้นาโนเทคโนโลยีและการเคลือบผิว

format_list_bulleted คุณสมบัติของผลิตภัณฑ์

พารามิเตอร์การทดสอบ ข้อมูลจำเพาะ
Purity (Chelatometric Titration) 95.5-104.5
Water by Karl Fischer 0-13

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 1g
10-20 days ฿2,620.00
inventory 5g
10-20 days ฿8,500.00

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB
Bis(hexafluoroacetylacetonato)nickel(II) hydrate
No image available

สารเคมีนี้ใช้หลัก ๆ ในสาขาวิทยาศาสตร์วัสดุ โดยเฉพาะการสะสมฟิล์มบาง ทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ด้วยไอระเหยเคมี (CVD) และ deposition ชั้นอะตอม (ALD) เพื่อสร้างฟิล์มที่มีส่วนประกอบของนิกเกิล ฟิล์มเหล่านี้จำเป็นต่อการผลิตส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ เช่น เซมิคอนดักเตอร์และเซ็นเซอร์ เนื่องจากคุณสมบัติการนำไฟฟ้าและคุณสมบัติเร่งปฏิกิริยา นอกจากนี้ยังนำมาใช้ในการวิจัยและพัฒนาเพื่อสร้างวัสดุขั้นสูงที่มีลักษณะแม่เหล็กหรืออิเล็กทรอนิกส์เฉพาะ ความเสถียรและปฏิกิริยาภายใต้สภาวะควบคุมทำให้เป็นสารประกอบที

สารเคมีนี้ใช้หลัก ๆ ในสาขาวิทยาศาสตร์วัสดุ โดยเฉพาะการสะสมฟิล์มบาง ทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ด้วยไอระเหยเคมี (CVD) และ deposition ชั้นอะตอม (ALD) เพื่อสร้างฟิล์มที่มีส่วนประกอบของนิกเกิล ฟิล์มเหล่านี้จำเป็นต่อการผลิตส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ เช่น เซมิคอนดักเตอร์และเซ็นเซอร์ เนื่องจากคุณสมบัติการนำไฟฟ้าและคุณสมบัติเร่งปฏิกิริยา นอกจากนี้ยังนำมาใช้ในการวิจัยและพัฒนาเพื่อสร้างวัสดุขั้นสูงที่มีลักษณะแม่เหล็กหรืออิเล็กทรอนิกส์เฉพาะ ความเสถียรและปฏิกิริยาภายใต้สภาวะควบคุมทำให้เป็นสารประกอบที่มีคุณค่าต่อการประยุกต์ใช้นาโนเทคโนโลยีและการเคลือบผิว

Mechanism -
Appearance -
Longevity -
Strength -
Storage -
Shelf Life -
Allergen(s) -
Dosage (Range) -
Dosage (Per Day) -
Mix Method -
Heat Resistance -
Stable in pH range -
Solubility -
Product Types -
INCI -

Purchase History for

Loading purchase history...