สารละลายทา (Ta solution) ใช้เป็นสารตั้งต้นในการผลิตฟิล์มบางเบสทาンタルัมสำหรับอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในไดอิเล็กทริกแบบ high-k และตัวเก็บประจุ ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพในไมโครอิเล็กทรอนิกส์เนื่องจากสามารถก่อตัวเป็นชั้นออกไซด์ที่เสถียรและมีคุณภาพสูง นอกจากนี้ ยังนำไปใช้ในเทคโนโลยีการเคลือบเพื่อพื้นผิวที่ทนต่อการกัดกร่อน และในการผลิตส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูงสำหรับอุปกรณ์อวกาศและอุปกรณ์การแพทย์ เหมาะสำหรับกระบวนการ deposition ด้วยไอเคมี (CVD) และ deposition แบบชั้นอะตอม (ALD)