ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อผลิตฟิล์มบางและเคลือบที่มีแมกนีเซียม ซึ่งฟิล์มเหล่านี้มีความสำคัญในการผลิตวัสดุอิเล็กทรอนิกส์ รวมถึงชั้น dielectric และชั้นกึ่งตัวนำ ความระเหยสูงและความเสถียรทางความร้อนของสารนี้ทำให้เหมาะสำหรับการ deposition ที่อุณหภูมิปานกลาง ส่งผลให้เกิดการเจริญเติบโตของฟิล์มที่สม่ำเสมอ นอกจากนี้ยังใช้ในงานวิจัยเพื่อสังเคราะห์อนุภาคนาโนและโครงสร้างนาโนของแมกนีเซียมออกไซด์ (MgO) ซึ่งมี ứng dụng ในด้าน catalysis, optics และเซรามิกขั้นสูง นอกจากนั้นยังทำหน้าที่เป็นแหล่งกำเนิดแมกนีเซียมในปฏิกิริยาออร์กาโนเมทัลลิกและวิทยาศาสตร์วัสดุที่ต้องการการปล่อยไอออนโลหะแบบควบคุม