ใช้เป็นตัวสร้างกรดด้วยแสง (PAG) ในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟีขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับการสัมผัสแสงอัลตราไวโอเลตลึก (DUV) หรือแสงอัลตราไวโอเลตสุดขีด (EUV) จะปล่อยกรดที่แรงออกมา ช่วยให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำของวงจรไมโครอิเล็กทรอนิกส์ได้ ความเสถียรทางความร้อนสูงและการสร้างกรดที่มีประสิทธิภาพทำให้เหมาะสำหรับสูตรเรซิสต์ที่ต้องการความละเอียดสูงและการปล่อยก๊าซต่ำ นอกจากนี้ยังนำไปใช้ในปฏิกิริยาโพลิเมอร์ไรเซชันแบบคาตไอออนิกที่ต้องการการเริ่มต้นที่ควบคุมได้ภายใต้การสัมผัสแสง