ใช้หลัก ๆ เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อผลิตฟิล์มบางของโลหะทังสเตน ฟิล์มเหล่านี้ใช้ในอุตสาหกรรมการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในไมโครอิเล็กทรอนิกส์สำหรับสร้างเส้นทางนำไฟฟ้าและการเชื่อมต่อ นอกจากนี้ยังใช้ในการสังเคราะห์ตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีทังสเตนและสารประกอบออร์แกโนเมทัลลิก เนื่องจากความผันผวนและความเสถียรทางความร้อนของมัน ทำให้สามารถทำการ deposition ได้อย่างแม่นยำที่อุณหภูมิต่ำค่อนข้าง เหมาะสำหรับการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง นอกจากนี้ยังใช้ในการวิจัยเพื่อพัฒนาวัสดุและโครงสร้างนาโนที่ขึ้นอยู่กับทังสเตนใหม่