ใช้เป็นสารกำเนิดกรดจากแสง (photoacid generator: PAG) ในการพิมพ์ลิโธกราฟี (photolithography) โดยเฉพาะในระบบเรซิสต์สำหรับรังสีอัลตราไวโอเลตลึก (DUV) และรังสีอัลตราไวโอเลตสุด (EUV) เมื่อได้รับรังสี จะปลดปล่อยกรดแรงสูง เช่น H[SbF6] ซึ่งทำหน้าที่เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในการเปลี่ยนแปลงทางเคมีของโฟโต้เรซิสต์ ช่วยให้สามารถพัฒนารูปแบบที่แม่นยำในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ความเสถียรทางความร้อนและประสิทธิภาพในการกำเนิดกรดทำให้เหมาะสำหรับการสร้างลวดลายความละเอียดสูงในไมโครอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการพอลิเมอไรเซชันแบบไคคะชันและสารเคลือบพิเศษที่ต้องการการเริ่มต้นกรดที่ควบคุมได้