สารเคมีนี้ใช้หลักในฐานะสารตั้งต้นในการสังเคราะห์ฟิล์มบางและการเคลือบวัสดุฐานไทเทเนียม โดยเฉพาะในกระบวนการสะสมไอสารเคมี (CVD) และการสะสมชั้นอะตอม (ALD) เป็นส่วนประกอบสำคัญในการผลิตวัสดุขั้นสูงสำหรับอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งต้องการชั้นออกไซด์ไทเทเนียมที่มีความแม่นยำและคุณภาพสูง นอกจากนี้ ยังนำไปใช้ในด้านการเร่งปฏิกิริยา โดยเฉพาะปฏิกิริยาโพลิเมอไรเซชัน ซึ่งช่วยเพิ่มประสิทธิภาพและการควบคุมกระบวนการ ความเสถียรและคุณสมบัติการเกิดปฏิกิริยาทำให้เหมาะสำหรับการประยุกต์ใช้ในอุตสาหกรรมและการวิจัยเฉพาะทางที่ต้องการสารประกอบไทเทเนียมประสิทธิภาพสูง