Octachlorotrisilane ถูกใช้หลักๆ ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เป็นสารตั้งต้นสำหรับการสะสมฟิล์มบางที่มีส่วนประกอบของซิลิกอน โดยมีบทบาทสำคัญในกระบวนการ deposition ด้วยไอระเหยทางเคมี (CVD) ซึ่งช่วยในการก่อตัวของชั้นไนไตรด์ซิลิกอนหรือออกไซด์ซิลิกอนบนพื้นผิว substrate ชั้นเหล่านี้จำเป็นสำหรับการเป็นฉนวนและป้องกันส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ในวงจรรวม นอกจากนี้ ยังถูกนำไปใช้ในการผลิตซิลิกอนความบริสุทธิ์สูงสำหรับวัสดุขั้นสูงและการเคลือบผิว ความสามารถในการทำปฏิกิริยากับสารประกอบอื่นๆ ทำให้มีคุณค่าในการสังเคราะห์โพลิเมอร์และเซรามิกส์ 기반ซิลิกอนเฉพาะทาง ซึ่งใช้ในงานประยุกต์ที่มีประสิทธิภาพสูง