สารเคมีนี้ใช้หลักๆ ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์ เป็นสารตั้งต้นสำหรับฟิล์มบางของซิลิคอนคาร์ไบด์ (SiC) และซิลิคอนไนไตรด์ (Si3N4) ซึ่งฟิล์มเหล่านี้จำเป็นต่อการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง รวมถึงเซมิคอนดักเตอร์กำลังและส่วนประกอบ optoelectronic นอกจากนี้ ยังเป็นวัสดุหลักในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) ที่ช่วยสร้างชั้นเคลือบประสิทธิภาพสูงและชั้นป้องกัน บทบาทของมันใน nanotechnology และวิทยาศาสตร์วัสดุมีความสำคัญ โดยเฉพาะในการพัฒนาวัสดุที่ทนทานและทนความร้อนสำหรับการใช้งานอุตสาหกรรม