ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบสารเคมีด้วยไอระเหย (Chemical Vapor Deposition - CVD) และการสะสมชั้นอะตอม (Atomic Layer Deposition - ALD) เพื่อสร้างฟิล์มบางของไททาเนียมไนไตรด์หรือไททาเนียมไดออกไซด์ ซึ่งจำเป็นในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์สำหรับชั้นป้องกันหรือฉนวนบนส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังใช้ในการผลิตเซรามิกขั้นสูงและการเคลือบผิวเพื่อเพิ่มความทนทานและประสิทธิภาพในสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูงหรือกัดกร่อน นอกจากนี้ยังมีบทบาทในฐานะตัวเร่งปฏิกิริยาสำหรับการสังเคราะห์อินทรีย์ ทำให้เกิดปฏิกิริยาเคมีที่มีประสิทธิภาพและเลือกสรรได้ การนำไปใช้ในเทคโนโลยีนาโนช่วยในการพัฒนาวัสดุโครงสร้างนาโนที่มีคุณสมบัติเฉพาะเจาะจง