ใช้เป็นสารตั้งต้นในการผลิตฟิล์มบางและการเคลือบผิว โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ มีบทบาทสำคัญในกระบวนการ deposition ด้วยไอระเหยทางเคมี (CVD) และการ deposition ชั้นอะตอม (ALD) เพื่อสร้างฟิล์มอลูมิเนียมไนไตรด์และอลูมิเนียมออกไซด์คุณภาพสูง ฟิล์มเหล่านี้มีความสำคัญต่อการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง รวมถึง LED, ทรานซิสเตอร์ และวงจรรวม นอกจากนี้ ยังมีส่วนในกระบวนการสังเคราะห์สารเคมีพิเศษและตัวเร่งปฏิกิริยา ช่วยในการแปลงสารอินทรีย์ต่างๆ การประยุกต์ใช้ยังขยายไปถึงการพัฒนาวัสดุทางแสงและการเคลือบป้องกัน ซึ่งช่วยเพิ่มความทนทานและประสิทธิภาพในอุตสาหกรรมไฮเทค