Bis(pentamethylcyclopentadienyl)magnesium, elec. gr.

99.999% metals basis

Reagent รหัส: #130248
fingerprint
หมายเลข CAS 74507-64-5

science Other reagents with same CAS 74507-64-5

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 294.77 g/mol
สูตร C₂₀H₃₀Mg
badge หมายเลขทะเบียน
MDL Number MFCD00151387
thermostat คุณสมบัติทางกายภาพ
Melting Point 230 °C(dec.)(lit.)
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
พื้นที่จัดเก็บ Room temperature, seal, inert gas

description รายละเอียดสินค้า

ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) สำหรับการสะสมฟิล์มบางที่ประกอบด้วยแมกนีเซียม โดยเฉพาะในการพัฒนาวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูงและอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ ความบริสุทธิ์สูงและความผันผวนทำให้เหมาะสำหรับการสร้างชั้นเคลือบที่สม่ำเสมอและมีคุณภาพสูงบนพื้นผิว นิยมใช้ในงานวิจัยและอุตสาหกรรมที่ต้องการการควบคุมที่แม่นยำต่อการ doping แมกนีเซียมหรือการก่อตัวของสารประกอบ เช่น ในกระบวนการสังเคราะห์ออกไซด์หรือไนไตรด์ที่ doped ด้วยแมกนีเซียม นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการสังเคราะห์ออร์แกโนเมทัลลิกเป็นฐานที่แรงหรือสารตัวกลางในการแลกเปลี่ยนโลหะในปฏิกิริยาที่ควบคุมได้

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 1g
10-20 days ฿25,290.00

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB
Bis(pentamethylcyclopentadienyl)magnesium, elec. gr.
No image available

ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) สำหรับการสะสมฟิล์มบางที่ประกอบด้วยแมกนีเซียม โดยเฉพาะในการพัฒนาวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูงและอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ ความบริสุทธิ์สูงและความผันผวนทำให้เหมาะสำหรับการสร้างชั้นเคลือบที่สม่ำเสมอและมีคุณภาพสูงบนพื้นผิว นิยมใช้ในงานวิจัยและอุตสาหกรรมที่ต้องการการควบคุมที่แม่นยำต่อการ doping แมกนีเซียมหรือการก่อตัวของสารประกอบ เช่น ในกระบวนการสังเคราะห์ออกไซด์หรือไนไตรด์ที่ doped ด้วยแมกนีเซียม นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการสังเคราะห์ออร์แกโนเมทัลลิกเ

ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) สำหรับการสะสมฟิล์มบางที่ประกอบด้วยแมกนีเซียม โดยเฉพาะในการพัฒนาวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูงและอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ ความบริสุทธิ์สูงและความผันผวนทำให้เหมาะสำหรับการสร้างชั้นเคลือบที่สม่ำเสมอและมีคุณภาพสูงบนพื้นผิว นิยมใช้ในงานวิจัยและอุตสาหกรรมที่ต้องการการควบคุมที่แม่นยำต่อการ doping แมกนีเซียมหรือการก่อตัวของสารประกอบ เช่น ในกระบวนการสังเคราะห์ออกไซด์หรือไนไตรด์ที่ doped ด้วยแมกนีเซียม นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการสังเคราะห์ออร์แกโนเมทัลลิกเป็นฐานที่แรงหรือสารตัวกลางในการแลกเปลี่ยนโลหะในปฏิกิริยาที่ควบคุมได้

Mechanism -
Appearance -
Longevity -
Strength -
Storage -
Shelf Life -
Allergen(s) -
Dosage (Range) -
Dosage (Per Day) -
Mix Method -
Heat Resistance -
Stable in pH range -
Solubility -
Product Types -
INCI -

Purchase History for

Loading purchase history...