ใช้เป็นสารตั้งต้นซิลิกอนในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในกระบวนการ atomic layer deposition (ALD) และ chemical vapor deposition (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางของซิลิคอนไนไตรด์หรือซิลิคอนคาร์ไบด์ ความไวต่อปฏิกิริยาสูงและความผันผวนทำให้เหมาะสำหรับการสะสมที่อุณหภูมิต่ำ ซึ่งมีประโยชน์สำหรับฐานที่อ่อนไหวต่ออุณหภูมิ นอกจากนี้ยังใช้ในงานปรับเปลี่ยนพื้นผิวและสารเชื่อมโยงเนื่องจากสามารถโต้ตอบกับทั้งวัสดุอินทรีย์และอนินทรีย์ ยังนำไปใช้ในการสังเคราะห์สารประกอบออร์แกนโอซิลิคอนสำหรับวัสดุเคลือบผิวที่ทนต่อความร้อนและความชื้น และในงานวิจัยนาโนแมททีเรียลเพื่อควบคุมพื้นผิวอนุภาคนาโน