ใช้เป็นสารตั้งต้นหลักในการสะสมฟิล์มบางที่เป็นฐานซิลิคอนผ่านกระบวนการการสะสมไอสารเคมี (CVD) มีคุณค่าอย่างยิ่งในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์สำหรับการสร้างชั้นซิลิคอนหรือซิลิคอนคาร์ไบด์ที่มีความบริสุทธิ์สูงบนพื้นผิว ความผันผวนและความเสถียรทางความร้อนช่วยให้การก่อตัวฟิล์มมีประสิทธิภาพที่อุณหภูมิต่ำค่อนข้าง ทำให้เหมาะสำหรับการผลิตอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบออร์กาโนซิลิคอนอื่นๆ ที่นำไปใช้ในพอลิเมอร์พิเศษและเซรามิก