ใช้หลัก ๆ เป็นสารกลางในการสังเคราะห์สารประกอบฐานซิลิคอน โดยเฉพาะในการผลิตฟิล์มซิลิคอนความบริสุทธิ์สูงผ่านการสะสมไอทางเคมี (CVD) ทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งการสะสมชั้นซิลิคอนที่ควบคุมได้มีความสำคัญ ความตอบสนองของมันช่วยให้เกิดปฏิกิริยาพื้นผิวแบบเลือกเพศ ทำให้มีคุณค่าในงานเคลือบพิเศษและการผลิตนาโนวัสดุ เนื่องจากความไวต่อความชื้นและอากาศ การจัดการต้องทำในสภาวะเฉื่อย จำกัดการใช้ในสภาพแวดล้อมอุตสาหกรรมและวิจัยที่ควบคุมได้