Tris(trimethylsiloxy)chlorosilane

97%

Reagent รหัส: #238532
fingerprint
หมายเลข CAS 17905-99-6

science Other reagents with same CAS 17905-99-6

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 331.104 g/mol
สูตร C₉H₂₇ClO₃Si₄
badge หมายเลขทะเบียน
MDL Number MFCD00054864
thermostat คุณสมบัติทางกายภาพ
Melting Point <0 °C
Boiling Point 78 °C
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
พื้นที่จัดเก็บ 2-8°C

description รายละเอียดสินค้า

ใช้เป็นตัวทำให้เกิดซิลานิเลชัน (silylating agent) ในกระบวนการสังเคราะห์อินทรีย์ โดยเฉพาะสำหรับการป้องกันหมู่ hydroxyl และ amino ในโมเลกุลที่ละเอียดอ่อน โครงสร้างที่ใหญ่ช่วยให้เกิดการป้องกันแบบ steric shielding เพิ่มความเลือกสรรในสารประกอบที่มีหลายฟังก์ชัน

นิยมใช้ในการเตรียมโพลีเมอร์และเรซินฐานซิลิคอน เพื่อปรับปรุงความคงตัวทางความร้อนและความต้านทานความชื้น นอกจากนี้ยังใช้ในการปรับเปลี่ยนพื้นผิวของซิลิกาและแก้วเพื่อเพิ่มความไฮโดรโฟบิก ทำให้มีประโยชน์ในสารเคลือบ กาว และอิเล็กทรอนิกส์ขนาดเล็ก

นิยมใช้ในกระบวนการเตรียมตัวอย่างก่อนวิเคราะห์ด้วยโครมาโทกราฟี เช่น GC หรือ HPLC เพื่อทำให้สารที่มีหมู่ -OH หรือ -COOH มีความคงตัวและระเหยได้ดีขึ้น

นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์โพลีเมอร์ซิลิโคนที่มีโครงสร้างเฉพาะ หรือเป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในบางกระบวนการเคมีอินทรีย์ โดยเฉพาะที่ต้องการควบคุมความชื้นและความเป็นกรด-เบสของระบบ สามารถทำปฏิกิริยากับความชื้นได้ง่าย จึงต้องจัดการภายใต้สภาวะไร้น้ำ

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 25g
10-20 days ฿45,980.00

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB
Tris(trimethylsiloxy)chlorosilane
No image available

ใช้เป็นตัวทำให้เกิดซิลานิเลชัน (silylating agent) ในกระบวนการสังเคราะห์อินทรีย์ โดยเฉพาะสำหรับการป้องกันหมู่ hydroxyl และ amino ในโมเลกุลที่ละเอียดอ่อน โครงสร้างที่ใหญ่ช่วยให้เกิดการป้องกันแบบ steric shielding เพิ่มความเลือกสรรในสารประกอบที่มีหลายฟังก์ชัน

นิยมใช้ในการเตรียมโพลีเมอร์และเรซินฐานซิลิคอน เพื่อปรับปรุงความคงตัวทางความร้อนและความต้านทานความชื้น นอกจากนี้ยังใช้ในการปรับเปลี่ยนพื้นผิวของซิลิกาและแก้วเพื่อเพิ่มความไฮโดรโฟบิก ทำให้มีประโยชน์ในสารเคลือบ กาว และอิเล็กทรอนิกส์ขนาดเล็ก

นิย

ใช้เป็นตัวทำให้เกิดซิลานิเลชัน (silylating agent) ในกระบวนการสังเคราะห์อินทรีย์ โดยเฉพาะสำหรับการป้องกันหมู่ hydroxyl และ amino ในโมเลกุลที่ละเอียดอ่อน โครงสร้างที่ใหญ่ช่วยให้เกิดการป้องกันแบบ steric shielding เพิ่มความเลือกสรรในสารประกอบที่มีหลายฟังก์ชัน

นิยมใช้ในการเตรียมโพลีเมอร์และเรซินฐานซิลิคอน เพื่อปรับปรุงความคงตัวทางความร้อนและความต้านทานความชื้น นอกจากนี้ยังใช้ในการปรับเปลี่ยนพื้นผิวของซิลิกาและแก้วเพื่อเพิ่มความไฮโดรโฟบิก ทำให้มีประโยชน์ในสารเคลือบ กาว และอิเล็กทรอนิกส์ขนาดเล็ก

นิยมใช้ในกระบวนการเตรียมตัวอย่างก่อนวิเคราะห์ด้วยโครมาโทกราฟี เช่น GC หรือ HPLC เพื่อทำให้สารที่มีหมู่ -OH หรือ -COOH มีความคงตัวและระเหยได้ดีขึ้น

นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์โพลีเมอร์ซิลิโคนที่มีโครงสร้างเฉพาะ หรือเป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในบางกระบวนการเคมีอินทรีย์ โดยเฉพาะที่ต้องการควบคุมความชื้นและความเป็นกรด-เบสของระบบ สามารถทำปฏิกิริยากับความชื้นได้ง่าย จึงต้องจัดการภายใต้สภาวะไร้น้ำ

Mechanism -
Appearance -
Longevity -
Strength -
Storage -
Shelf Life -
Allergen(s) -
Dosage (Range) -
Dosage (Per Day) -
Mix Method -
Heat Resistance -
Stable in pH range -
Solubility -
Product Types -
INCI -

Purchase History for

Loading purchase history...