ใช้เป็นสารสำหรับการบำบัดพื้นผิวในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในกระบวนการลิโธกราฟีขั้นสูง ช่วยปรับเปลี่ยนพื้นผิวที่เป็นฐานซิลิคอนเพื่อปรับปรุงการยึดเกาะและประสิทธิภาพของโฟโต้เรซิสต์ นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารซิลิเลติงเอเจนต์ในการสังเคราะห์อินทรีย์เพื่อปกป้องหมู่ไฮดรอกซิลหรืออะมีนในระหว่างปฏิกิริยาหลายขั้นตอน ความตอบสนองของมันต่อพื้นผิวที่มีหมู่ไฮดรอกซิลทำให้มีคุณค่าในการสร้างชั้นเคลือบที่กันน้ำและในการเตรียมวัสดุที่ถูกฟังก์ชันนาไลซ์สำหรับการประยุกต์ใช้ในไมโครอิเล็กทรอนิกส์และนาโนเทคโนโลยี