ใช้เป็นสารซิลิเลติ้งเอเจนต์ในการสังเคราะห์สารอินทรีย์ โดยเฉพาะในการเตรียมสารประกอบที่มีซิลิคอนสำหรับการใช้งานในเซมิคอนดักเตอร์และฟิล์มบาง ความตอบสนองทางเคมีของมันทำให้เหมาะสำหรับการปรับเปลี่ยนพื้นผิวของวัสดุในไมโครอิเล็กทรอนิกส์ และเป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อสร้างชั้นไดอิเล็กทริกฐานซิลิคอน นอกจากนี้ยังใช้ในการสังเคราะห์โพลิเมอร์ซิเลนขั้นสูงและวัสดุไฮบริดอินทรีย์-อนินทรีย์ เนื่องจากความสามารถในการนำกลุ่มไดเมทิลอะมิโนและไตรเมทิลซิลิลเข้าไปภายใต้สภาวะอ่อนโยน