n-Hexylsilane ใช้เป็นสารปรับเปลี่ยนพื้นผิวในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอุตสาหกรรมเคลือบผิว โดยช่วยปรับปรุงคุณสมบัติการกันน้ำและการยึดเกาะบนพื้นผิวที่เป็นฐานซิลิกอน มักใช้ในการผลิตอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ซึ่งช่วยในการป้องกันพื้นผิว (passivate) และลดการรั่วไหลของไฟฟ้าที่ไม่ต้องการ โครงสร้างโซ่แอลคิลยาวช่วยให้เกิดการก่อตัวของชั้น monolayer ที่เสถียรบนออกไซด์และโลหะ ทำให้มีคุณค่าในเทคโนโลยี self-assembled monolayer (SAM) สำหรับเซ็นเซอร์และนาโนลิโธกราฟี นอกจากนี้ ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์วัสดุไฮบริดออร์แกนิก-อนินทรีย์สำหรับเคลือบผิวพิเศษที่มีความทนทานและทนน้ำที่เพิ่มขึ้น