Hafnium(IV) isopropoxide isopropanol complex ถูกนำมาใช้อย่างกว้างขวางในกระบวนการผลิตวัสดุขั้นสูง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซรามิกและอิเล็กทรอนิกส์ เนื่องจากมีความเสถียรและคุณสมบัติทางเคมีที่เหมาะสม ทำให้เป็นสารตั้งต้นที่สำคัญในการสังเคราะห์ฟิล์มบาง (thin films) ผ่านกระบวนการทางเคมี เช่น Chemical Vapor Deposition (CVD) และ Atomic Layer Deposition (ALD) ซึ่งฟิล์มเหล่านี้ใช้ในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์และอุปกรณ์เก็บพลังงาน นอกจากนี้ ยังถูกนำมาใช้ในการวิจัยและพัฒนาวัสดุที่มีสมบัติพิเศษ เช่น วัสดุทนความร้อนและวัสดุที่มีความแข็งแรงสูง ซึ่งมีประโยชน์ในอุตสาหกรรมการบินและอวกาศ รวมถึงการเคลือบป้องกันสำหรับชิ้นส่วนเครื่องจักรที่ต้องทำงานในสภาพแวดล้อมที่รุนแรง ในด้านนาโนเทคโนโลยี สารนี้ยังมีบทบาทสำคัญในการสังเคราะห์อนุภาคนาโนและโครงสร้างนาโนที่ใช้ในด้านการแพทย์และพลังงาน เช่น ตัวเร่งปฏิกิริยาและเซ็นเซอร์ที่มีประสิทธิภาพสูง