ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบด้วยเทคนิค CVD (Chemical Vapor Deposition) เพื่อสร้างฟิล์มบางของรูเทเนียมหรือออกไซด์ของรูเทเนียมบนพื้นผิวต่าง ๆ ฟิล์มที่ได้มีคุณสมบัติการนำไฟฟ้าดีมาก และมีความเสถียรต่อการกัดกร่อน จึงเหมาะสำหรับใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขนาดเล็ก เช่น ตัวเก็บประจุในชิปหน่วยความจำ DRAM นอกจากนี้ยังใช้ในงานวิจัยด้านตัวเร่งปฏิกิริยา และวัสดุนาโนที่ต้องการคุณสมบัติพิเศษทางไฟฟ้าและแม่เหล็ก