4-tert-Butoxystyrene

98% (GC), containing stabilizer BHT

Reagent รหัส: #151340
fingerprint
หมายเลข CAS 95418-58-9

science Other reagents with same CAS 95418-58-9

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 176.26 g/mol
สูตร C₁₂H₁₆O
badge หมายเลขทะเบียน
MDL Number MFCD0014518
thermostat คุณสมบัติทางกายภาพ
Melting Point -38 °C
Boiling Point 73 °C/0.075 mmHg
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
Density 0.94 g/ml
พื้นที่จัดเก็บ 2-8℃

description รายละเอียดสินค้า

ใช้หลัก ๆ เป็นโมโนเมอร์ในการสังเคราะห์พอลิเมอร์เฉพาะทาง 4-tert-Butoxystyrene ช่วยในการผลิตเรซินประสิทธิภาพสูงที่มีความเสถียรทางความร้อนและการละลายที่เพิ่มขึ้น หมู่ tert-butoxy ที่ใหญ่ให้เกิดการขัดขวางเชิง steric ซึ่งช่วยควบคุมการจัดเรียงโซ่พอลิเมอร์ ทำให้พอลิเมอร์ที่ได้เหมาะสำหรับการใช้งาน lithography ขั้นสูง รวมถึงการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งมีคุณค่าต่อการผสม photoresists สำหรับ lithography แบบ deep ultraviolet (DUV) และ extreme ultraviolet (EUV) เนื่องจากมี etch resistance ที่ดีและสามารถสร้างลายละเอียดที่แม่นยำในระดับนาโน미터 นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารกลางในการพัฒนาวัสดุฟังก์ชันสำหรับ optoelectronics และ sensors

format_list_bulleted คุณสมบัติของผลิตภัณฑ์

พารามิเตอร์การทดสอบ ข้อมูลจำเพาะ
Appearance Colorless to yellow liquid
Purity (GC) 97.5-100%
Infrared Spectrum Conforms to Structure
NMR Conforms to Structure

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 10ml
10-20 days ฿1,080.00
inventory 100ml
10-20 days ฿7,530.00

ตะกร้า

ไม่มีสินค้า

Subtotal: 0.00
รวมทั้งสิ้น 0.00 THB
4-tert-Butoxystyrene
No image available

ใช้หลัก ๆ เป็นโมโนเมอร์ในการสังเคราะห์พอลิเมอร์เฉพาะทาง 4-tert-Butoxystyrene ช่วยในการผลิตเรซินประสิทธิภาพสูงที่มีความเสถียรทางความร้อนและการละลายที่เพิ่มขึ้น หมู่ tert-butoxy ที่ใหญ่ให้เกิดการขัดขวางเชิง steric ซึ่งช่วยควบคุมการจัดเรียงโซ่พอลิเมอร์ ทำให้พอลิเมอร์ที่ได้เหมาะสำหรับการใช้งาน lithography ขั้นสูง รวมถึงการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งมีคุณค่าต่อการผสม photoresists สำหรับ lithography แบบ deep ultraviolet (DUV) และ extreme ultraviolet (EUV) เนื่องจากมี etch resistance ที่ดีและสามารถสร้

ใช้หลัก ๆ เป็นโมโนเมอร์ในการสังเคราะห์พอลิเมอร์เฉพาะทาง 4-tert-Butoxystyrene ช่วยในการผลิตเรซินประสิทธิภาพสูงที่มีความเสถียรทางความร้อนและการละลายที่เพิ่มขึ้น หมู่ tert-butoxy ที่ใหญ่ให้เกิดการขัดขวางเชิง steric ซึ่งช่วยควบคุมการจัดเรียงโซ่พอลิเมอร์ ทำให้พอลิเมอร์ที่ได้เหมาะสำหรับการใช้งาน lithography ขั้นสูง รวมถึงการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งมีคุณค่าต่อการผสม photoresists สำหรับ lithography แบบ deep ultraviolet (DUV) และ extreme ultraviolet (EUV) เนื่องจากมี etch resistance ที่ดีและสามารถสร้างลายละเอียดที่แม่นยำในระดับนาโน미터 นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารกลางในการพัฒนาวัสดุฟังก์ชันสำหรับ optoelectronics และ sensors

Mechanism -
Appearance -
Longevity -
Strength -
Storage -
Shelf Life -
Allergen(s) -
Dosage (Range) -
Dosage (Per Day) -
Mix Method -
Heat Resistance -
Stable in pH range -
Solubility -
Product Types -
INCI -

Purchase History for

Loading purchase history...