ใช้หลัก ๆ เป็นโมโนเมอร์ในการสังเคราะห์พอลิเมอร์เฉพาะทาง 4-tert-Butoxystyrene ช่วยในการผลิตเรซินประสิทธิภาพสูงที่มีความเสถียรทางความร้อนและการละลายที่เพิ่มขึ้น หมู่ tert-butoxy ที่ใหญ่ให้เกิดการขัดขวางเชิง steric ซึ่งช่วยควบคุมการจัดเรียงโซ่พอลิเมอร์ ทำให้พอลิเมอร์ที่ได้เหมาะสำหรับการใช้งาน lithography ขั้นสูง รวมถึงการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งมีคุณค่าต่อการผสม photoresists สำหรับ lithography แบบ deep ultraviolet (DUV) และ extreme ultraviolet (EUV) เนื่องจากมี etch resistance ที่ดีและสามารถสร้างลายละเอียดที่แม่นยำในระดับนาโน미터 นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารกลางในการพัฒนาวัสดุฟังก์ชันสำหรับ optoelectronics และ sensors