ใช้เป็นสารสร้างกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) ในสูตร photoresist โดยเฉพาะใน lithography แบบ deep ultraviolet (DUV) และ electron-beam เมื่อถูกสัมผัสรังสี จะปลดปล่อยกรดแรงที่เร่งปฏิกิริยาเคมีใน resist ทำให้สามารถพัฒนารูปแบบที่แม่นยำได้ในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ นิยมใช้ใน positive และ negative tone resists สำหรับไมโครอิเล็กทรอนิกส์และการผลิตวงจรรวม นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการโพลีเมอไรเซชันแบบแคทไอออนิกบางประการและเทคโนโลยีการเคลือบขั้นสูงที่ต้องการการเริ่มต้นกรดแบบควบคุม