สารเคมีนี้ถูกนำมาใช้หลัก ๆ ในสาขาการสังเคราะห์อินทรีย์ โดยเฉพาะในการพัฒนาวัสดุ photoresist โครงสร้างที่ไม่เหมือนใครทำให้เหมาะสำหรับใช้ในกระบวนการ lithography โดยทำหน้าที่เป็นสาร photoactive สารนี้ เมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต จะเกิดปฏิกิริยา photochemical ที่เปลี่ยนแปลงความสามารถในการละลาย ทำให้สามารถสร้างลายเส้นที่แม่นยำบนเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ คุณสมบัตินี้มีความสำคัญอย่างยิ่งในการผลิตอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เช่น อินทิเกรต็ดเซอร์กิตและไมโครชิป นอกจากนี้ ส่วนประกอบ spirocyclic ยังช่วยเพิ่มความเสถียรและประสิทธิภาพภายใต้สภาวะการแปรรูปที่หลากหลาย ทำให้เป็นส่วนประกอบที่มีคุณค่าในสูตรวัสดุขั้นสูง