สารเคมีนี้ถูกนำไปใช้หลักในการสังเคราะห์อินทรีย์ โดยเฉพาะในการพัฒนาวัสดุ photoresist สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ โครงสร้างที่มีส่วน benzophenone และแทนที่ด้วยกลุ่ม 1,4-dioxa-8-azaspiro[4.5]decyl ทำให้มีประสิทธิภาพในการดูดซับแสง UV ซึ่งสำคัญสำหรับกระบวนการ photolithography สารนี้ยังถูกสำรวจในการออกแบบโพลิเมอร์และสารเคลือบขั้นสูง โดยคุณสมบัติความเสถียรและความไวต่อแสงช่วยเพิ่มประสิทธิภาพ นอกจากนี้ ยังมีศักยภาพในการสังเคราะห์เภสัชภัณฑ์ โดยโครงสร้างที่ไม่เหมือนใครสามารถช่วยในการสร้างโมเลกุลที่ออกฤทธิ์ทางชีวภาพ