ใช้เป็นตัวกลางสำคัญในการสังเคราะห์ triarylsulfonium salts ซึ่งทำหน้าที่เป็น photoacid generators ในกระบวนการ photolithography ขั้นสูง ใช้อย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์สำหรับการสร้างลวดลายความละเอียดสูงบนเวเฟอร์ นอกจากนี้ยังใช้ในสูตรพอลิเมอร์พิเศษเพื่อเริ่มต้นการโพลีเมอไรเซชันแบบไคคาติกเมื่อได้รับแสง UV ทำให้มีคุณค่าสำหรับการเคลือบ หมึก และกาวที่ต้องการการเยื่อแห้งอย่างรวดเร็ว ความเสถียรทางความร้อนและโปรไฟล์การสร้างกรดที่มีประสิทธิภาพทำให้เหมาะสมสำหรับระบบการถ่ายภาพประสิทธิภาพสูง