ใช้หลักๆ เป็นโฟโตแอซิดเจนเนอเรเตอร์ (PAG) ในสูตรเรซิสต์ไวต่อแสงขั้นสูงสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลตลึก (DUV) หรือแสงอัลตราไวโอเลตสุดขีด (EUV) จะปล่อยกรดแรงที่เร่งปฏิกิริยาเคมีในเรซิสต์ ช่วยให้พัฒนาลวดลายที่แม่นยำในกระบวนการลิโธกราฟี ความคงตัวทางความร้อนสูงและการสร้างกรดที่มีประสิทธิภาพทำให้เหมาะสำหรับการสร้างลวดลายความละเอียดสูงที่จำเป็นในไมโครอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการพอลิเมอไรเซชันแบบแคทไอออนและการเคลือบพิเศษที่ต้องการการเริ่มต้นปฏิกิริยาที่ควบคุมด้วยแสง รวมถึงเป็นโฟโตอินิเทียเตอร์ชนิดแคทไอออนในกระบวนการแข็งตัวด้วยแสง โดยเฉพาะในเรซินที่ไวต่อแสง เช่น เรซินอีพอกซีและเรซินวินิล ช่วยเริ่มต้นปฏิกิริยาพอลิเมอไรเซชันเมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลตหรือแสงที่มองเห็นได้ เหมาะสำหรับการใช้งานในสีเคลือบ หมึกพิมพ์ และวัสดุฟิล์มที่ต้องการการแข็งตัวเร็วและมีความทนทานสูง สามารถใช้ในระบบ UV-curing ได้อย่างมีประสิทธิภาพ โดยให้ผลิตภัณฑ์ที่มีความใส ทนต่อสารเคมี และมีความแข็งแรงของพันธะดี