ใช้หลักในการกระบวนการโฟโตโพลิเมอไรเซชันในฐานะโฟโตอินิเชียเตอร์ ซึ่งช่วยให้การเย็นตัวอย่างรวดเร็วของสารเคลือบ หมึก และกาวภายใต้แสง UV หรือแสงที่มองเห็นได้ มีประสิทธิภาพโดยเฉพาะในคอมโพสิตทางทันตกรรมและเรซินสำหรับการพิมพ์ 3D เนื่องจากความไวสูงและประสิทธิภาพในการเริ่มต้นปฏิกิริยาระดับอิสระ ความสามารถในการดูดซับแสงในช่วงใกล้ UV ถึงแสงที่มองเห็นได้ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานที่ต้องการแหล่งกำเนิดแสงพลังงานต่ำ นอกจากนี้ยังใช้ในวัสดุบันทึกโฮโลแกรมและโฟโตเรซิสต์สำหรับการผลิตไมโครอิเล็กทรอนิกส์