สารเคมีนี้ใช้หลัก ๆ เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) ในสาขาฟอโตลิโธกราฟี โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะปล่อยกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีที่จำเป็นสำหรับการสร้างลวดลายบนโฟโต้เรซิสต์บนเวเฟอร์ซิลิคอน ประสิทธิภาพสูงและความเสถียรภายใต้การสัมผัส UV ทำให้เป็นส่วนประกอบที่มีคุณค่าต่อกระบวนการลิโธกราฟีขั้นสูง ซึ่งช่วยให้ผลิตส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ที่เล็กลงและแม่นยำยิ่งขึ้น นอกจากนี้ยังใช้ในการพัฒนาวัสดุภาพถ่ายความละเอียดสูงและสารเคลือบขั้นสูงที่ต้องการการกำเนิดกรดที่ควบคุมได้