ไตรฟีนิลซัลโฟเนียมบราไมด์ถูกใช้อย่างแพร่หลายเป็นสารสร้างกรดจากแสง (photoacid generator) ในกระบวนการโฟโตลิโทกราฟี โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์ มีบทบาทสำคัญในการผลิตไมโครชิปและวงจรรวม โดยการสร้างกรดเมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต ซึ่งช่วยในการสร้างลายและการกัดเซลิกอนเวเฟอร์ นอกจากนี้ ยังถูกใช้ในการสังเคราะห์วัสดุขั้นสูง เช่น โฟโตเรซิสต์ เนื่องจากความสามารถในการเริ่มต้นปฏิกิริยาการเชื่อมข้ามหรือการย่อยสลายภายใต้การสัมผัสแสง การประยุกต์ใช้ขยายไปยังการวิจัยและพัฒนาในเคมีอินทรีย์ ซึ่งทำหน้าที่เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาและสารสังเคราะห์สำหรับกระบวนการต่าง ๆ