เกลือไตรอาริลซัลโฟเนียม เฮกซาฟลูออโรแอนติโมนีต ถูกใช้อย่างแพร่หลายเป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (photoacid generators) ในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟี โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์ พวกมันมีบทบาทสำคัญในการผลิตไมโครชิปและวงจรรวม โดยการสร้างกรดที่แรงเมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต (UV) ซึ่งช่วยในการสร้างลายและการกัดเซลิกอนเวเฟอร์ เกลือเหล่านี้ยังถูกใช้ในการผลิตแผงวงจรพิมพ์ (PCBs) เพื่อสร้างลายที่แม่นยำและมีความละเอียดสูง นอกจากนี้ยังถูกใช้ในสารเคลือบและกาวขั้นสูงที่ต้องการการเย็นตัวด้วย UV เพื่อให้เกิดการพอลิเมอร์ไรเซชันที่รวดเร็วและมีประสิทธิภาพ ความเสถียรและประสิทธิภาพของพวกมันทำให้จำเป็นในแอปพลิเคชันที่ต้องการปฏิกิริยาเคมีจากแสงประสิทธิภาพสูง