สารเคมีนี้ใช้หลักๆ เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (PAG) ในกระบวนการลิโธกราฟี โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะปล่อยกรด ซึ่งช่วยในการสร้างลวดลายของโฟโต้เรซิสต์บนเวเฟอร์ซิลิคอน สิ่งนี้ช่วยให้สามารถ etching และ layering ได้อย่างแม่นยำสำหรับการสร้างวงจรรวมและส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์อื่นๆ นอกจากนี้ ยังใช้ในวิทยาศาสตร์วัสดุขั้นสูงสำหรับการพัฒนาการถ่ายภาพและการสร้างลวดลายความละเอียดสูงในนาโนแฟบริเคชัน ความเสถียรและประสิทธิภาพในการสร้างกรดทำให้เป็นส่วนประกอบที่มีคุณค่าต่ออุตสาหกรรมที่เน้นความแม่นยำและการย่อขนาด