ใช้หลักๆ เป็นสารสร้างกรดจากแสง (photoacid generator: PAG) ที่มีประสิทธิภาพสูงในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟีในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ มีบทบาทสำคัญในการผลิตอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ โดยการสร้างกรดเมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) ซึ่งช่วยในการสร้างลวดลายและการกัดแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนด้วยความแม่นยำสูง หมู่ trifluoromethyl ช่วยเพิ่มความเสถียรและปฏิกิริยา ทำให้เหมาะสำหรับเทคนิค lithography ขั้นสูง รวมถึง deep UV และ extreme UV lithography นอกจากนี้ ยังใช้ในการสังเคราะห์สารเคมีพิเศษและเป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในปฏิกิริยาอินทรีย์เนื่องจากคุณสมบัติกรดที่แรง