ถูกใช้อย่างแพร่หลายเป็นสารสร้างกรดจากแสง (photoacid generator: PAG) ในสูตรของสารละลายต้านทานแสง (photoresist) สำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ มีบทบาทสำคัญในกระบวนการลิโธกราฟีด้วยแสง (photolithography) โดยสร้างกรดที่แรงเมื่อได้รับแสง UV ช่วยในการสร้างลวดลายบนเวเฟอร์ซิลิคอน ความเสถียรทางความร้อนและประสิทธิภาพทำให้เหมาะสำหรับเทคนิคการลิโธกราฟีขั้นสูง รวมถึงลิโธกราฟี UV ลึก (deep UV) และลิโธกราฟี UV เอ็กซ์ตรีม (extreme UV: EUV) นอกจากนี้ ยังถูกนำไปใช้ในการสังเคราะห์สารเคมีพิเศษและพอลิเมอร์ โดยทำหน้าที่เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาหรือตัวเริ่มต้นในปฏิกิริยาการพอลิเมอไรเซชันแบบไคคะตะไอออนิก ความไวต่อปฏิกิริยาสูงและความเข้ากันได้กับพื้นผิวต่างๆ ทำให้มีคุณค่าต่อการสร้างวัสดุประสิทธิภาพสูงสำหรับอิเล็กทรอนิกส์และสารเคลือบผิว