สารเคมีนี้ใช้หลักly เป็นสารสร้างกรดจากแสง (photoacid generator: PAG) ในสูตรเรซิสต์ภาพขั้นสูงสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยมีบทบาทสำคัญในกระบวนการลิโธกราฟี ซึ่งจะสร้างกรดเมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำของส่วนประกอบไมโครอิเล็กทรอนิกส์ได้ ความไวและประสิทธิภาพสูงทำให้เหมาะสำหรับลิโธกราฟี UV ลึกและ EUV ซึ่งจำเป็นสำหรับการผลิตวงจรรวมที่เล็กลงและซับซ้อนมากขึ้น นอกจากนี้ ความเสถียรและความเข้ากันได้กับวัสดุเรซิสต์ต่างๆ ยังเพิ่มประโยชน์ในการถ่ายภาพความละเอียดสูง สนับสนุนการพัฒนาอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์รุ่นถัดไป