สารประกอบนี้ถูกนำมาใช้หลักๆ ในกระบวนการโฟโตลิโทกราฟีในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ โดยทำหน้าที่เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (PAG) ซึ่งมีความสำคัญในการสร้างลวดลายที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอนระหว่างการผลิตไมโครชิป เมื่อถูกแสง UV จะปล่อยกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีที่จำเป็นสำหรับการพัฒนาลวดลายวงจรที่ต้องการ ความเสถียรและประสิทธิภาพในการสร้างกรดทำให้เป็นส่วนประกอบที่มีค่าในสูตรโฟโตเรซิสต์ขั้นสูง ซึ่งช่วยให้ผลิตส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ที่มีความละเอียดสูงและขนาดเล็ก นอกจากนี้ยังใช้ในเคมีโพลิเมอร์สำหรับเริ่มต้นปฏิกิริยาโพลิเมอริเซชันแบบไคคาติก สนับสนุนการสังเคราะห์วัสดุโพลิเมอร์พิเศษ