สารเคมีนี้ถูกนำมาใช้อย่างแพร่หลายในกระบวนการโฟโตลิโทกราฟี โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งทำหน้าที่เป็นตัวสร้างกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะปล่อยกรดที่แรงออกมาเพื่อเร่งปฏิกิริยาการเชื่อมขวางหรือการย่อยสลายของโฟโตเรซิสต์ ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอนได้ ความเสถียรทางความร้อนสูงและประสิทธิภาพในการสร้างกรดทำให้เหมาะสำหรับเทคนิคการลิโทกราฟีขั้นสูง รวมถึง Deep UV (DUV) และ Extreme UV (EUV) นอกจากนี้ ยังใช้ในการสังเคราะห์สารเคมีพิเศษและโพลิเมอร์ โดยใช้ความสามารถในการเริ่มต้นการโพลิเมอร์ไรเซชันแบบไคคาติอองเพื่อผลิตวัสดุประสิทธิภาพสูง การประยุกต์ใช้ยังขยายไปถึงสารเคลือบและกาวขั้นสูง ซึ่งช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการเย็นตัวและคุณสมบัติของวัสดุ