สารเคมีนี้ใช้หลักly เป็นสารสร้างกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) ในสาขาโฟโตลิโทกราฟี โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะสร้างกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาการเชื่อมขวางหรือการถอดป้องกันโพลิเมอร์ในโฟโต้เรซิสต์ กระบวนการนี้มีความสำคัญต่อการสร้างลายเส้นที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอน ซึ่งช่วยให้ผลิตวงจรรวมและอุปกรณ์ไมโครอื่นๆ ได้ ประสิทธิภาพในการสร้างกรดไตรฟลูออโรมีเทนซัลโฟนิก ซึ่งเป็นกรดที่ทำปฏิกิริยาได้สูงและแรง ทำให้มีคุณค่าอย่างยิ่งสำหรับการสร้างลายเส้นความละเอียดสูง นอกจากนี้ยังใช้ในการวิจัยวัสดุขั้นสูงเพื่อพัฒนาสูตรโฟโต้เรซิสต์ใหม่ที่มีความไวและประสิทธิภาพดีขึ้น