สารเคมีนี้ใช้หลัก ๆ เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (PAG) ในกระบวนการโฟโตลิโทกราฟี โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์ มีบทบาทสำคัญในการผลิตไมโครชิปและส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์อื่น ๆ โดยการสร้างกรดเมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) กรดที่ผลิตขึ้นช่วยเร่งปฏิกิริยาเคมีที่จำเป็นสำหรับการสร้างลายบนวัสดุ photoresist ทำให้สามารถ etching และ deposition ชั้นบนเวเฟอร์ซิลิคอนได้อย่างแม่นยำ ความเสถียรทางความร้อนสูงและประสิทธิภาพในการสร้างกรดที่แรงทำให้เหมาะสำหรับเทคนิค lithography ขั้นสูง รวมถึง deep UV และ extreme UV (EUV) lithography นอกจากนี้ ยังใช้ในการผลิตจอแสดงผลความละเอียดสูงและแผงวงจรพิมพ์ (PCBs) ซึ่งการสร้างลายละเอียดเป็นสิ่งจำเป็น ความเข้ากันได้กับระบบ photoresist ต่าง ๆ รับประกันการใช้งานอย่างแพร่หลายในกระบวนการผลิตขั้นสูง