สารเคมีนี้ใช้หลักในฐานะตัวสร้างกรดจากแสง (photoacid generator: PAG) ในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟีขั้นสูง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์ การประยุกต์ใช้หลักคือการผลิตไมโครชิปและวงจรรวมความละเอียดสูง เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะสร้างกรดที่แข็งแกร่งซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีที่จำเป็นสำหรับการสร้างลายเส้นบนวัสดุโฟโตเรซิสต์ สิ่งนี้ช่วยให้สามารถแกะสลักลายวงจรที่ซับซ้อนอย่างแม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอน ความเสถียรทางความร้อนและประสิทธิภาพในการสร้างกรดทำให้เหมาะสำหรับเทคนิคโฟโตลิโธกราฟีรุ่นใหม่ เช่น โฟโตลิโธกราฟีอัลตราไวโอเลตสุดขีด (EUV lithography) ซึ่งสำคัญต่อการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่เล็กลงและมีประสิทธิภาพสูงขึ้น นอกจากนี้ ยังใช้ในงานวิจัยวัสดุขั้นสูง เพื่อช่วยพัฒนาโพลิเมอร์และสารเคลือบผิวใหม่ที่มีคุณสมบัติพิเศษ