สารเคมีนี้ใช้หลักๆ เป็นสารสร้างกรดจากแสง (PAG) ในกระบวนการลิโธกราฟีด้วยแสง โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะสร้างกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาการเชื่อมข้ามหรือการถอดปกป้องของโพลิเมอร์ในวัสดุโฟโตเรซิสต์ สิ่งนี้ช่วยให้สามารถสร้างลวดลายวงจรที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอน ซึ่งสำคัญสำหรับการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ประสิทธิภาพสูง ความเสถียรทางความร้อนและประสิทธิภาพในการสร้างกรดทำให้เหมาะสำหรับเทคนิคลิโธกราฟีขั้นสูง รวมถึงลิโธกราฟีลึก UV (DUV) และลิโธกราฟีสุด UV (EUV) นอกจากนี้ ยังใช้ในการพัฒนาวัสดุขั้นสูงสำหรับสารเคลือบและการถ่ายภาพ เนื่องจากความสามารถในการเริ่มต้นปฏิกิริยาเคมีเมื่อถูกแสง