เคมีภัณฑ์นี้ถูกนำไปใช้หลักๆ ในสาขาพลอโตลิโธกราฟี โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ มันทำหน้าที่เป็นเครื่องกำเนิดกรดด้วยแสง (photoacid generator: PAG) ซึ่งเป็นส่วนสำคัญในกระบวนการโฟโต้เรซิสต์ เมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะปล่อยกรดออกมา ช่วยในการสร้างลวดลายของวัสดุโฟโต้เรซิสต์บนเวเฟอร์ซิลิคอน ซึ่งช่วยให้สามารถทำการ etching และ deposition ที่แม่นยำสำหรับการสร้างแบบวงจรที่ซับซ้อน นอกจากนี้ยังถูกนำไปใช้ในการสังเคราะห์วัสดุขั้นสูง โดยใช้ในการเริ่มต้นปฏิกิริยาการเกิดพอลิเมอร์ภายใต้การสัมผัสแสง สนับสนุนการพัฒนาเคลือบพิเศษและพอลิเมอร์ บทบาทของมันในการสร้างสารปฏิกิริยาภายใต้สภาวะควบคุมทำให้มีคุณค่าในกระบวนการวิจัยและอุตสาหกรรมที่ต้องการความแม่นยำและประสิทธิภาพสูง