สารเคมีนี้ใช้หลักเป็นสารสร้างกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) ในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟีต่างๆ โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะปล่อยกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาการเชื่อมขวางหรือการถอดการป้องกันของพอลิเมอร์ ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอนได้ ประสิทธิภาพและความเสถียรของมันทำให้เหมาะสำหรับสูตร photoresist ขั้นสูง ซึ่งช่วยในการผลิตส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ความละเอียดสูง นอกจากนี้ยังนำไปใช้ในการพัฒนาวัสดุขั้นสูงและสารเคลือบที่ต้องการการสร้างกรดแบบควบคุมสำหรับกระบวนการบ่มหรือการปรับเปลี่ยน