สารประกอบนี้ถูกนำมาใช้หลักๆ ในสาขาการโฟโตโพลิเมอไรเซชัน โดยทำหน้าที่เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (PAG) ที่มีประสิทธิภาพสูง เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะปล่อยกรดที่แรงซึ่งเริ่มต้นกระบวนการโพลิเมอไรเซชัน ทำให้มีคุณค่าต่อการผลิตสารเคลือบขั้นสูง กาว และโฟโตเรซิสต์ ความสามารถในการสร้างกรดภายใต้แสง UV มีประโยชน์อย่างยิ่งในการผลิตไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ซึ่งต้องการการสร้างลวดลายที่แม่นยำและการถ่ายภาพความละเอียดสูง นอกจากนี้ ยังถูกนำมาใช้ในการพัฒนาวัสดุทางแสงและในการสังเคราะห์โพลิเมอร์พิเศษ ซึ่งการสร้างกรดที่ควบคุมได้เป็นสิ่งจำเป็นสำหรับการบรรลุคุณสมบัติวัสดุที่ต้องการ