สารเคมีนี้ใช้หลักๆ เป็นสารกำเนิดกรดจากแสง (Photoacid Generator: PAG) ในกระบวนการโฟโตลิโธกราฟีต่างๆ โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต (UV) จะปล่อยกรดออกมา ซึ่งจำเป็นสำหรับการสร้างลายและพัฒนาวัสดุโฟโตเรซิสต์บนแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอน ความเสถียรและประสิทธิภาพภายใต้การสัมผัส UV ทำให้เหมาะสำหรับการถ่ายภาพความละเอียดสูงในโหนดเทคโนโลยีขั้นสูง นอกจากนี้ยังนำไปใช้ในการสังเคราะห์โพลิเมอร์เฉพาะทางและสารเคลือบผิว ซึ่งต้องการการกำเนิดกรดที่ควบคุมได้สำหรับกระบวนการบ่มหรือการเชื่อมขวาง