สารเคมีนี้ถูกใช้อย่างแพร่หลายเป็นสารสร้างกรดจากแสง (PAG) ในสูตร photoresist สำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยมีบทบาทสำคัญในกระบวนการ lithography ซึ่งสร้างกรดที่แรงเมื่อถูกแสงอัลตราไวโอเลต (UV) ทำให้สามารถสร้างลวดลายที่แม่นยำของส่วนประกอบไมโครอิเล็กทรอนิกส์ได้ ประสิทธิภาพสูงและความเสถียรทำให้เหมาะสำหรับเทคโนโลยีโหนดขั้นสูง รวมถึง lithography แบบ extreme ultraviolet (EUV) นอกจากนี้ ยังถูกนำไปใช้ในการผลิตสารเคลือบและวัสดุประสิทธิภาพสูงที่ต้องการปฏิกิริยาที่ถูกเร่งด้วยกรดแบบควบคุม คุณสมบัติที่เป็นเอกลักษณ์ยังทำให้มีคุณค่าในการวิจัยและพัฒนาสำหรับการสร้างโพลิเมอร์เฉพาะทางและระบบเคมีขั้นสูง